小型磁控溅射镀膜仪-体积小集成性高

     1.真空腔室：246*228优质不锈钢材质，氩弧焊接；

     2.基片台：尺寸100mm，60-120mm高度可调，可旋转及加热300度；

     3.真空系统：机械泵+进口分子泵

     4.极限真空：8.0×10^-5Pa；

     5.真空抽速：大气～8×10^-4Pa ≤ 30min；

     6.真空测量：全量程复合真空计，测量范围：10⁵Pa～10^-5Pa；

     7.磁控靶：Φ2英寸2只（含靶挡板），兼容直流电源和射频电源；

     8.溅射电源：1台500W直流溅射电源和1台300W全自动匹配射频电源；

     9.质量流量计：进口10sccm、50sccm 控制器各一套；

     10.膜厚控制系统：进口Inficon SQM-160单水冷探头，精度0.1Å（选配）；

    11.控制方式：PLC+触摸屏智能控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障自检、保养维护提示等功能；  

     12.设备外形：L60cm×W60cm×H96cm机电一体化机架，预留1个CF35法兰接口；

  13.设备供电总功率≤2KW，220V，单相三线制（一火一零一地）；

 14.冷却循环系统：水压0.2～0.4MPa，水温10～25℃，给设备相关需水冷部件提供稳定的制冷水；