产品描述
1.真空腔室:L400×W400×H450mm(具体尺寸以设计为准),立式方形、前、后开门结构,前开门向右推拉开(上下有导轨),方便镀膜室与手套箱之间取、放样品,1Cr18Ni9Ti 优质不锈钢材质,氩弧焊接;
2.基片台:可抽拉式,尺寸120×120mm,可旋转升降;基片可加热至300±1℃(选配),配有基片台挡板;
3.真空系统:机械泵+分子泵;真空测量“两低一高”数显复合真空计组成;
4. 限真空:6.0×10-5Pa;
5.真空抽速:大气~8×10-4Pa ≤ 25min;
6.金属源:2-4组可选,配有挡板;
7.2-4组束源炉式结构,0-500度可调,配有独立挡板;
8.膜厚仪:膜厚仪水冷探头安装在基片架上基片台附近。膜厚仪用以实时监测镀膜速率和终厚,精度可达±0.1A(0.01nm),具备与电源联锁功能,工作时,若镀膜达到设置厚度,可自动切断电源,停止镀膜;
9.控制系统:整套控制系统采用PLC+触摸屏控制,有自动及手动两种功能,可在触摸屏上输入参 数以便进行镀膜工艺参数的摸索等;℃
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