多源蒸发镀膜系统

采用立             1.真空腔室：采用立式、U形、前开门结构，前开门结构方便取、放样品及真空腔室日常维护。

                         2.蒸发源：配6组蒸发源（金属蒸发源2组，有机蒸发源4组），也可根据具体需求组合配置；

                         3.真空系统：采用“分子泵+机械泵”真空系统；高真空插板阀；

                         4.真空测量：“两低一高”（两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空） 数显复合真空计，测量范围从1×10⁵Pa到1×10^-5Pa；

                         5.基片台：抽屉式结构，承载较大120×120mm，加热温度300±1℃，转速0～20r/min连续可调；载物台采用硬铝，并配有簧片夹具，基片置于蒸发源正上方，根据基片尺寸设计工装，方便固定样品，配有基片台挡板。

                         6.膜厚仪：膜厚仪水冷探头安装在基片架上基片台附近。膜厚仪用以实时监测镀膜速率和终厚，精度可达±0.1A（0.01nm）,具备与电源联锁功能,工作时,若镀膜达到设置厚度,可自动切断电源,停止镀膜；

 7.控制系统：整套控制系统采用PLC+触摸屏控制，有自动及手动两种功能，可在触摸屏上输入参数以便进行镀膜工艺参数的摸索等；